Francombe / Vossen | Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching | Buch | 978-0-12-533018-3 | sack.de

Buch, Englisch, 328 Seiten, Format (B × H): 152 mm x 229 mm, Gewicht: 626 g

Reihe: Thin Films and Nanostructures

Francombe / Vossen

Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching


Erscheinungsjahr 1994
ISBN: 978-0-12-533018-3
Verlag: ACADEMIC PR INC

Buch, Englisch, 328 Seiten, Format (B × H): 152 mm x 229 mm, Gewicht: 626 g

Reihe: Thin Films and Nanostructures

ISBN: 978-0-12-533018-3
Verlag: ACADEMIC PR INC

This latest volume of the well-known Physics of Thin Films Series includes four chapters that discuss high-density plasma sources for materials processing, electron cyclotron resonance and its uses, unbalancedmagnetron sputtering, and particle formation in thin film processing plasma.

Francombe / Vossen Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching jetzt bestellen!

Autoren/Hrsg.

Francombe, Maurice H.
Vossen, John L.

Fachgebiete

Weitere Infos & Material

Design of High- Density Plasma Sources for Materials Processing M.A. Lieberman and R.A. Gottscho  Electron Cyclotron Resonance Plasma Sources and Their Use in Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition of Thin Films O.A. Popov Unbalanced Magnetron Sputtering S.L. Rohde The Formation of Particles in Thin-Film Processing Plasmas Steinbruchel

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