Lin | Properties of Synthetic Two-Dimensional Materials and Heterostructures | Buch | 978-3-030-13105-0 | sack.de

Buch, Englisch, 141 Seiten, Previously published in hardcover, Format (B × H): 155 mm x 235 mm, Gewicht: 254 g

Reihe: Springer Theses

Lin

Properties of Synthetic Two-Dimensional Materials and Heterostructures


Softcover Nachdruck of the original 1. Auflage 2018
ISBN: 978-3-030-13105-0
Verlag: Springer International Publishing

Buch, Englisch, 141 Seiten, Previously published in hardcover, Format (B × H): 155 mm x 235 mm, Gewicht: 254 g

Reihe: Springer Theses

ISBN: 978-3-030-13105-0
Verlag: Springer International Publishing


This book represents a significant advance in our understanding of the synthesis and properties of two-dimensional (2D) materials. The author’s work breaks new ground in the understanding of a number of 2D crystals, including atomically thin transition metal dichalcogenides, graphene, and their heterostructures, that are technologically important to next-generation electronics. In addition to critical new results on the direct growth of 2D heterostructures, it also details growth mechanisms, surface science, and device applications of “epi-grade” 2D semiconductors, which are essential to low-power electronics, as well as for extending Moore’s law. Most importantly, it provides an effective alternative to mechanically exfoliate 2D layers for practical applications. 

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Zielgruppe


Research


Autoren/Hrsg.


Weitere Infos & Material


Chapter1. Two-Dimensional Materials.- Chapter2. Synthesis and Properties of 2D Semiconductors.- Chapter3. Properties of Atomically Thin WSe2 Grown via Metal-Organic Chemical Vapor Deposition.- Chapter4. Direct Synthesis of van der Waals Solids.- Chapter5. Atomically Thin Heterostructures Based on Monolayer WSe2 and Graphene.- Chapter6. Tuning Electronic Transport in WSe2-Graphene Junction.- Chapter7. Atomically Thin Resonant Tunnel Diodes.


Yu-Chuan Lin received his PhD from Pennsylvania State University in 2017. He now has a postdoctoral research position at Oak Ridge National Laboratory.



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