Svensson / Atwater / Lindner | Ion Implantation into Semiconductors, Oxides and Ceramics | Buch | 978-0-08-043613-5 | sack.de

Buch, Englisch, Format (B × H): 210 mm x 297 mm, Gewicht: 1490 g

Svensson / Atwater / Lindner

Ion Implantation into Semiconductors, Oxides and Ceramics


Erscheinungsjahr 1999
ISBN: 978-0-08-043613-5
Verlag: Elsevier Science & Technology

Buch, Englisch, Format (B × H): 210 mm x 297 mm, Gewicht: 1490 g

ISBN: 978-0-08-043613-5
Verlag: Elsevier Science & Technology


These proceedings contain the reviewed papers presented at the Symposium J on "Ion Implantation into Semiconductors, Oxides and Ceramics", which was held at the Spring Meeting of the European Materials Research Society in Strasbourg, France, 16-19, June 1998. The symposium attracted 110 contributions, with authors from 31 nations in 5 continents. It was thereby the largest in a series of E-MRS ion beam symposia, documenting the importance of ion beam techniques and research in this area.

The aim of this symposium was to provide a forum for the discussion of new results in the implantation of materials from three different classes: semiconductors, oxides and ceramics.
Svensson / Atwater / Lindner Ion Implantation into Semiconductors, Oxides and Ceramics jetzt bestellen!

Weitere Infos & Material


I. Group IV Semiconductors. Modeling of the kinetics of dislocation loops (E. Lampin, V. Senez). Influence of argon and hydrogen ions energy on the structure of a-Si:H prepared by ion-beam-assisted evaporation (H. Rinnert et al.). EPR study of a-Si structural relaxations (B. Pivac et al.). II. Group III-V and Other Semiconductors. Atomic-level characterisation of the structure of amorphised GaAs utilising EXAFS measurements (M.C. Ridgway et al.). Peculiarities of defect generation in Si+-implanted GaAs (211) (V.T. Bublik et al.). III. Ceramics and Oxides. Structural stability of ion bombarded non-metallic systems (P.M. Ossi, R. Pastorelli). Thermal stress resistance of ion implanted sapphire crystals (V.N. Gurarie et al.). IV. Phase Formation. Controlling the density distribution of SiC nanocrystals for the ion beam synthesis of buried SiC layers in silicon (J.K.N. Lindner, B. Stritzker). Wave-ordered structures formed on SOI wafers by reactive ion beams (V.K. Smirnov et al.). V. Optical Materials and Nanoclusters. Growth and characterization of Ge nanocrystals (S. Guha et al.). Thin amorphous gallium nitride films formed by ion beam synthesis (S.R.P. Silva et al.). VI. Measurement Techniques. Glancing incidence diffuse X-ray scattering studies of implantation damage in Si (K. Nordlund et al.). Magnetic behavior of Ni+ implanted silica (O. Cíntora-González et al.).


Ihre Fragen, Wünsche oder Anmerkungen
Vorname*
Nachname*
Ihre E-Mail-Adresse*
Kundennr.
Ihre Nachricht*
Lediglich mit * gekennzeichnete Felder sind Pflichtfelder.
Wenn Sie die im Kontaktformular eingegebenen Daten durch Klick auf den nachfolgenden Button übersenden, erklären Sie sich damit einverstanden, dass wir Ihr Angaben für die Beantwortung Ihrer Anfrage verwenden. Selbstverständlich werden Ihre Daten vertraulich behandelt und nicht an Dritte weitergegeben. Sie können der Verwendung Ihrer Daten jederzeit widersprechen. Das Datenhandling bei Sack Fachmedien erklären wir Ihnen in unserer Datenschutzerklärung.